JOB ID:42914
給与 | 400万円 〜 700万円 |
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業種 | メーカー |
勤務地 | 神奈川県 |
業務内容 | ・エピタキシャル半導体製造装置開発の中で、実際にプロセスを(成膜)を行う ①シリコン、GaN、SiC膜の成膜方法の開発 ②装置のメンテナンス、トラブル対応 ③プロセスに関する客先での装置立ち上げ、客先でのプロセス支援 |
応募資格 | ■必須要件 ・半導体製造装置の運転、メンテナンス(サービス業務含む)の経験者 ・長期出張(国内外)可能な方 ■尚可要件 ・半導体製造装置(CVD装置)で使用されるガスや、真空装置の取り扱い経験がある方 ・英語でのコミュニケーションが可能であれば尚可 |
福利厚生 / 待遇 | 昇給有り、定年制(60歳まで)、育児・介護休業制度、健康診断、独身借上社宅制度(35歳まで)・世帯向け借上社宅制度(最大12年間)有り、企業年金、確定拠出年金制度(DC)、厚生施設、社内食堂あり、財形貯蓄制度、再雇用制度、有給休暇:繰り越し含め最大48日、選択型福利厚生制度カフェポイント 等 |
勤務時間 | 平日8:45〜17:30(休憩時間:昼1時間)実働時間7.75時間 フレックスタイム制あり(コアタイム無し) |
休日休暇 | 週休2日制(土・日)、祝日、夏季、年末年始、有給、慶弔ほか ※年間休日125日以上 |