JOB ID：121738
非公開求人
非公開求人
| 給与 | 570万円 〜 970万円 |
|---|---|
| 業種 | メーカー |
| 勤務地 | 神奈川県 |
| 業務内容 | ご入社後は開発本部 リソグラフィープロセス材料研究課に配属となります。 当社独自性のあるシリコン含有レジストの開発を共に推進していただける素材開発人材を募集しています。 〈ご入社後の主な担当業務〉 ○フォトレジストの原材料となる有機もしくは有機無機ハイブリッドモノマー、ポリマーの素材設計・合成フロー検討と実合成 ○合成化合物の機器分析（GPC, NMR, LC等） ○合成化合物を用いたレジスト試作サンプルの基礎物性評価 〈求める人物像〉 ○明るく前向きに周囲と協力し、円滑にコミュニケーションを取りながら業務を推進できる方 |
| 応募資格 | 応募必須条件 ・大卒以上であること ・現職が正社員であること ・有機モノマー、ポリマー合成実務経験を有すること ※有機無機ハイブリッド材料を扱ったことがあれば尚良し 推奨条件 ・メーカーでの業務経験を有する ・語学力を有する（特に英語） |
| 福利厚生 / 待遇 | 各種社会保険完備、健康保険組合、企業年金基金、社員持株会、財形貯蓄、住宅援助金制度、寮・社宅、各種クラブ活動、食費補助、退職金制度、旅行補助金 他(※HPに詳細情報あり) |
| 勤務時間 | ■所定労働時間 07時間45分 休憩60分 ■フレックスタイム制 有 コアタイム：10:00～15:00 ■平均残業時間 16.4時間 ■残業手当 有 残業時間に応じて別途支給 |
| 休日休暇 | 年間123日 内訳：完全週休二日制、土曜 日曜 祝日 ■有給休暇 入社半年経過時点15日 最高付与日数20日 ■その他 その他（年に2回程度、祝日週に土曜日出勤有） |