JOB ID:118376

非公開求人
非公開求人
給与 600万円 〜 1000万円
業種 メーカー
勤務地 海外
業務内容 RET(Resolution Enhancement Technology) 開発者は、基本ルールとパターニング ステップに合わせて照明形状、SMO(Source Mask Optimization)や SRAF(Sub Resolution Assist Feature) などを含めた最適化を行う責任があります。
また、Computational LithographyとしてILT (Inverse Lithography Technology)や計算処理の高速化などの研究開発を担当します。

OPC モデル開発者は、所謂リソシミュレーション環境開発を実施します。レジストの経験的挙動とともに光学系の物理現象を捉えるコンパクトなモデルセットを作成する責任があります。 これにはモデルを構築するための構造のトップダウン (CDSEM) と断面 (X-SEM / TEM) の両方の分析が含まれます。

OPC レシピ開発者は、デザインをウェーハのパターン化に必要なマスク形状に変換するために使用されるコードセット作成の責任を負います。 この役割には、コードセットの作成とシミュレーションベースでの検証の両方が含まれます。
応募資格 必須スキル・経験
専門性: OPC(Optical Proximity Correction), RET(Resolution Enhancement Technology), SMO(Source Mask Optimization), ILT (Inverse Lithography Technology)に関する深い知識

経験: "デザイン / デバイス / デザインルール / パターニングへの理解と DTCO(Design Technology Co-Optimization)への貢献
プロセスアサンプションと製造ばらつきに関する知識
先端プロセス向けのソースマスク最適化:SMO(Source Mask Optimization)/モデル/OPC レシピ/RET全般の開発経験、知識
ILT(Inverse Lithography Technology)開発の経験、知識

ターゲットの設計形状を実現するためのOPCレシピ最適化の経験
エッチング テーブル、マスクバイアス等の製造プロセスを理解する能力とそれらに対応するモデリングの理解
OPCレシピを開発するためのEDAツールへの理解と、複数言語(Python、svrf、.tcl)でのプログラミング経験
OPCレシピ改善のための工場との対話の経験
分散処理技術、ネットワークなどのインフラストラクチャに対する理解

テストマスクの設計とその応用経験
計測に必要となるマクロ設計およびレシピの知識
EDAベンダー環境におけるモデリングとアプリケーションの経験(主にリソグラフィー、ただしエッチングの経験の両方が良い)
モデルフィッティング選択に必要となる統計学の経験
モデルフィッティングパラメーター選択に影響を与えるプロセスに対する知識
リソモデル検証とエッチングテーブル生成のための統合マクロ開発の経験
デザインチームと対話し、 DRCを実行した経験
大規模コンピューティング環境におけるデータ準備フロー、OPCレシピの実行
EDAベンダー環境での設計操作スクリプト作成経験

語学力: TOEIC 600 以上、もしくは同等程度

必要資格・ライセンス
大卒以上の実務・研究等の経験者(3年以上)または大学院(博士課程)修了以上 ※修了見込含む
必要言語・レベル
語学力:
TOEIC 600 以上、もしくは同等程度
日本語 JLPT:N3取得済み、もしくは同等程度の語学力
福利厚生 / 待遇 ・通勤手当
・残業手当
・健康保険
・厚生年金
・雇用保険
・労災保険
勤務時間 フレックスタイム制(フルフレックス)
標準労働時間帯 9:00~17:30(休憩60分)
1日の標準労働時間 7時間30分
休日休暇 完全週休2日制(土日、祝)

【年間休日】
120日

【休暇制度】
年末年始休暇
創立記念日(8月10日)
年次有給休暇(初年度6日-10日、勤続年数に応じて最大20日)