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JOB ID:117691

非公開求人
非公開求人
給与 750万円 〜 1300万円
業種 メーカー
勤務地 神奈川県
業務内容 仕事内容
エピタキシャル以外の化合物半導体ウエハプロセス領域(フォトリソ、エッチング等)において、
高信頼・高歩留りな光デバイス製造を実現するプロセス開発・改善を主導します。

・光デバイスウエハプロセスの工程改善・歩留向上・生産不具合解析
・新規ウエハプロセス技術の探索・設計・量産立上げ
・露光装置(縮小投影露光機)や電子線描画装置を用いた微細加工工程の最適化
・新規導入装置の技術選定・評価・立上げ・量産移行支援
・他プロセスエンジニア/設計/製造/品質部門との横断的な課題解決推進デバイス開発/製造におけるエピタキシャル以外のウエハプロセス工程業務

ミッション・価値・キャリア
【ミッション価値】
本職務は、AI/HPC時代に求められるTbps級データ処理を光で実現する中核技術を担います。
微細加工・材料制御・工程安定化の一つひとつが、
世界中のデータセンタやAIチップ間通信の性能に直結する社会的意義を持ちます。
“プロセス改善=産業の通信インフラ性能を引き上げる”
という、極めてダイレクトな価値創出を体感できるポジションです。

【キャリアプラン】
本領域は、今後5年で世界的に**人材希少性が急上昇する「光I/Oウエハプロセス技術」**です。
電子から光への転換が本格化する中、光デバイスプロセスの理解と改善実績を持つ技術者は、
グローバル市場で競争力の高いキャリアを築くことができます。
日本ルメンタムでは、設計~量産の距離が極めて近い環境下で、
自らの提案を即実装できる意思決定スピードを経験できる点も大きな魅力です。
応募資格 必須の経験・スキル
・半導体光デバイス(レーザ/PD等)の開発または製造工程における実務経験5年以上
・化合物半導体ウエハプロセス(エッチング/リソグラフィ/金属膜形成/パッシベーション/蒸着等)経験
・工程改善活動(歩留向上・不良解析・統計的工程管理等)の主導経験
・英文メール/技術ドキュメント/オンライン会議での英語コミュニケーション能力(TOEIC700相当)・半導体光デバイス(レーザ/PD等)の開発または製造工程における実務経験5年以上
・化合物半導体ウエハプロセス(エッチング/リソグラフィ/金属膜形成/パッシベーション等)経験
・工程改善活動(歩留向上・不良解析・統計的工程管理等)の主導経験
・英文メール/技術ドキュメント/オンライン会議での英語コミュニケーション能力(TOEIC700相当)

歓迎する経験
・プロセスリーダーまたはサブリーダーとしてチームマネジメント/後進育成経験を有する方
・電子線描画装置/縮小投影露光装置/ICPエッチング装置/CVD装置等の立上げ経験
・光デバイス特性(波長、光出力、反射耐性、歩留り)とプロセス要因の相関解析スキル
・英語での技術議論や発表に抵抗のない方(日本語併用可)

求める人物像
・現場課題を自ら抽出し、改善をリードできる能動的エンジニア
・製造・設計・品質を横断して技術的合意形成を進められる対話力と論理性
・「電子では届かない速度領域を、光で切り拓く」というミッションに共感できる方
福利厚生 / 待遇 <各手当・制度補足>
通勤手当:全額支給
家族手当:非月俸者のみ対象
住宅手当:独身30歳まで、世帯者40歳まで
寮社宅:単身寮制度あり(遠方持家の場合)
社会保険:補足事項なし
厚生年金基金:補足事項なし
退職金制度:退職一時金、確定拠出年金

<昇給有無>


<残業手当>


<定年>
60歳

<育休取得実績>


<教育制度・資格補助補足>
OJT

<その他補足>
■財形貯蓄
■カフェテリアプラン等
勤務時間 9:00-17:30(休憩45分)
フレックスタイム制(コアタイム10:00-14:30)
休日休暇 完全週休2日制(休日は土日祝日)
年間有給休暇22日~24日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります)
年間休日日数125日

年末年始休暇(8日)、GW(9日)、夏季休暇(9日)、家族看護休暇、リフレッシュ休暇、育児・介護休暇等有