JOB ID:117691
| 給与 | 750万円 〜 1300万円 |
|---|---|
| 業種 | メーカー |
| 勤務地 | 神奈川県 |
| 業務内容 | 仕事内容 エピタキシャル以外の化合物半導体ウエハプロセス領域(フォトリソ、エッチング等)において、 高信頼・高歩留りな光デバイス製造を実現するプロセス開発・改善を主導します。 ・光デバイスウエハプロセスの工程改善・歩留向上・生産不具合解析 ・新規ウエハプロセス技術の探索・設計・量産立上げ ・露光装置(縮小投影露光機)や電子線描画装置を用いた微細加工工程の最適化 ・新規導入装置の技術選定・評価・立上げ・量産移行支援 ・他プロセスエンジニア/設計/製造/品質部門との横断的な課題解決推進デバイス開発/製造におけるエピタキシャル以外のウエハプロセス工程業務 ミッション・価値・キャリア 【ミッション価値】 本職務は、AI/HPC時代に求められるTbps級データ処理を光で実現する中核技術を担います。 微細加工・材料制御・工程安定化の一つひとつが、 世界中のデータセンタやAIチップ間通信の性能に直結する社会的意義を持ちます。 “プロセス改善=産業の通信インフラ性能を引き上げる” という、極めてダイレクトな価値創出を体感できるポジションです。 【キャリアプラン】 本領域は、今後5年で世界的に**人材希少性が急上昇する「光I/Oウエハプロセス技術」**です。 電子から光への転換が本格化する中、光デバイスプロセスの理解と改善実績を持つ技術者は、 グローバル市場で競争力の高いキャリアを築くことができます。 日本ルメンタムでは、設計~量産の距離が極めて近い環境下で、 自らの提案を即実装できる意思決定スピードを経験できる点も大きな魅力です。 |
| 応募資格 | 必須の経験・スキル ・半導体光デバイス(レーザ/PD等)の開発または製造工程における実務経験5年以上 ・化合物半導体ウエハプロセス(エッチング/リソグラフィ/金属膜形成/パッシベーション/蒸着等)経験 ・工程改善活動(歩留向上・不良解析・統計的工程管理等)の主導経験 ・英文メール/技術ドキュメント/オンライン会議での英語コミュニケーション能力(TOEIC700相当)・半導体光デバイス(レーザ/PD等)の開発または製造工程における実務経験5年以上 ・化合物半導体ウエハプロセス(エッチング/リソグラフィ/金属膜形成/パッシベーション等)経験 ・工程改善活動(歩留向上・不良解析・統計的工程管理等)の主導経験 ・英文メール/技術ドキュメント/オンライン会議での英語コミュニケーション能力(TOEIC700相当) 歓迎する経験 ・プロセスリーダーまたはサブリーダーとしてチームマネジメント/後進育成経験を有する方 ・電子線描画装置/縮小投影露光装置/ICPエッチング装置/CVD装置等の立上げ経験 ・光デバイス特性(波長、光出力、反射耐性、歩留り)とプロセス要因の相関解析スキル ・英語での技術議論や発表に抵抗のない方(日本語併用可) 求める人物像 ・現場課題を自ら抽出し、改善をリードできる能動的エンジニア ・製造・設計・品質を横断して技術的合意形成を進められる対話力と論理性 ・「電子では届かない速度領域を、光で切り拓く」というミッションに共感できる方 |
| 福利厚生 / 待遇 | <各手当・制度補足> 通勤手当:全額支給 家族手当:非月俸者のみ対象 住宅手当:独身30歳まで、世帯者40歳まで 寮社宅:単身寮制度あり(遠方持家の場合) 社会保険:補足事項なし 厚生年金基金:補足事項なし 退職金制度:退職一時金、確定拠出年金 <昇給有無> 有 <残業手当> 有 <定年> 60歳 <育休取得実績> 有 <教育制度・資格補助補足> OJT <その他補足> ■財形貯蓄 ■カフェテリアプラン等 |
| 勤務時間 | 9:00-17:30(休憩45分) フレックスタイム制(コアタイム10:00-14:30) |
| 休日休暇 | 完全週休2日制(休日は土日祝日) 年間有給休暇22日~24日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります) 年間休日日数125日 年末年始休暇(8日)、GW(9日)、夏季休暇(9日)、家族看護休暇、リフレッシュ休暇、育児・介護休暇等有 |