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JOB ID:117649

非公開求人
非公開求人
給与 700万円 〜 1500万円
業種 IT・通信・インターネット
勤務地 神奈川県
業務内容 先端パッケージ開発におけるRDL形成プロセス開発
・パネルサイズ基板へのRDL形成
・基板反り、収縮、段差影響の吸収設計(基板、アライメント光技術)
・フォトリソ 条件の設定、工程能力控除う(塗布、霧光、現像技術)
・めっき条件の設定、工程能力向上(電解めっき技術)
・ウェットプロセス条件の設定、工程能力向上
(レジスト剥離、Wetエッチング技術)
応募資格 【必須要件】
フォトリングラフィプロセスの実務経験

【歓迎要件】
・厚膜レジスト経験
・RDLフォト経験
福利厚生 / 待遇 <各手当・制度補足>
退職金制度:補足事項なし

<教育制度・資格補助補足>
■社内語学教育制度(韓国語、英語)
■学位の取得支援(取得後は資格手当有り)

<その他補足>
■慶弔見舞金
■保養所・契約ホテル、スポーツ・レジャー施設利用割引等
■家賃補助:※持ち家、賃貸問わず支給
※入社時に転居が伴う場合転居費用は同社が負担します。
勤務時間 フレックスタイム制
コアタイム:11:00~15:00
休憩時間:60分
時間外労働有無:有

<標準的な勤務時間帯>
9:00~17:30
休日休暇 完全週休2日制(休日は会社カレンダーによる)
年間有給休暇10日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります)
年間休日日数124日

完全週休2日制/年末年始/有給/特別休暇