JOB ID:117637
| 給与 | 700万円 〜 1500万円 |
|---|---|
| 業種 | IT・通信・インターネット |
| 勤務地 | 神奈川県 |
| 業務内容 | 先端パッケージ開発における洗浄プロセス開 RDL/Cuピラー後のケミカル洗浄条件設計 仮接合デボンド後のポリマー残渣除去最適化 フラックス/有機残渣除去プロセス設計 Cu腐食抑制設計(pH/キレート/抑制剤管理) 表面改質(親水化・密着性向上) パーティクル低減活動 不具合解析 |
| 応募資格 | 【必須要件】 ・いずれか必須 半導体ウエット/ケミカルプロセス経験 洗浄液メーカーでの液開発経験 【歓迎要件】 ROL/バンプ工程経験 Cu腐食対策経験 パーティクル管理経験 |
| 福利厚生 / 待遇 | <各手当・制度補足> 退職金制度:補足事項なし <教育制度・資格補助補足> ■社内語学教育制度(韓国語、英語) ■学位の取得支援(取得後は資格手当有り) <その他補足> ■慶弔見舞金 ■保養所・契約ホテル、スポーツ・レジャー施設利用割引等 ■家賃補助:※持ち家、賃貸問わず支給 ※入社時に転居が伴う場合転居費用は同社が負担します。 |
| 勤務時間 | フレックスタイム制 コアタイム:11:00~15:00 休憩時間:60分 時間外労働有無:有 <標準的な勤務時間帯> 9:00~17:30 |
| 休日休暇 | 完全週休2日制(休日は会社カレンダーによる) 年間有給休暇10日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります) 年間休日日数124日 完全週休2日制/年末年始/有給/特別休暇 |