JOB ID:108314
給与 | 400万円 〜 800万円 |
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業種 | メーカー |
勤務地 | 北海道,東京都,海外 |
業務内容 | 2nm世代、及びBeyond 2nmの先端ロジック開発における主にリソグラフィの業務を担っていただきます。 |
応募資格 | 【専⾨性】 リソグラフィ工程の経験、露光装置技術、マスク技術、レジスト材料・プロセス技術、検査・計測 (メトロロジ)、OPC (近接効果補正)、光学設計、プログラミングスキルのいずれかの経験がある方 大卒以上の実務・研究等の経験者(3年以上)または大学院(博士課程)修了以上 ※修了見込含む 【語学⼒】 TOEIC600点以上もしくは同等程度の語学力 日本語 JLPT:N3取得済み、もしくは同等程度の語学力 |
福利厚生 / 待遇 | ・通勤手当 ・残業手当 OJTでの研修教育を想定 |
勤務時間 | フレックスタイム制(フルフレックス) ※1日の標準労働時間 7時間30分 ※標準労働時間帯 9:00~17:30(休憩60分) |
休日休暇 | ・完全週休2日制(土・日)、国民の祝日 ・年次有給休暇(20日 入社初年度は入社した月に応じる日数の年次有給休暇を付与する) ・創立記念日(8/10) ・年末年始休暇 ・慶弔休暇 ・産前・産後休暇 ・育児休暇 ・介護休暇 ※年間休日 120日 |