[非公開求人の求人詳細]

JOB ID: 33421 非公開求人

水溶性ポリマーの設計・合成

業種
メーカー
職種
研究/開発(電気/電子/半導体), 研究/開発(化学/素材), 生産/製造技術開発(化学/素材), 基礎/応用研究/分析(化学/素材)
業務内容
半導体ウェハ加工用塗布液の開発、及び商業化(スケールアップ)を顧客、社内関連部署と共に推進していただきます。
応募資格

【必須条件】
※以下いずれかのご経験をお持ちの方
・水溶性ポリマーに対する知見
・合成技術、分析、薬液組成化技術に対する開発業務の経験

※フォトリソグラフィとは、写真の原理と似た技術です。フォトレジスト(感光性樹脂)にマスクパターン(設計図・模様)を転写し、像を描きます。そのフォトレジストの像(パターン)を利用して微細加工を行います。

給与

年俸:500万円~650万円

福利厚生/待遇
・厚生年金基金
・退職金制度
・独身寮、社宅完備※片道2時間以上を要する方に限定
・社員持株会
・住宅援助金制度

育児休職制度、介護休職制度、勤務時間短縮制度、療養補償制度、ならし勤務制度、社会貢献休職制度、ドナー休職制度、失効有給休暇積立制度、子の看護休暇制度、再就職制度
勤務時間
8:30~17:15 (所定労働時間7時間45分)
休憩時間:60分
休日休暇

有給休暇

完全週休2日制(かつ土日祝日)
休日日数121日

年末年始休暇、年次有給休暇(入社半年経過後 15日~最高20日)、慶弔休暇など

勤務地

神奈川県

屋内の受動喫煙対策
あり(屋内喫煙所あり)

その他基礎/応用研究/分析(化学/素材)の求人