[研究/開発(化学/素材)]の求人検索結果

サイト公開求人13件中

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非公開求人

製品開発職

業務内容
グループ会社の太陽インキ製造にて、ソルダーレジストやエレクトロニクス向け材料の製品開発、新製品開発をお任せいたします。 所属:研究部門 業務内容: ・エレクトロニクス向け材料開発に関わる中期的課題解決のためのテーマ立案と遂行 ・化学を基礎とした新規事業のための研究テーマ立案と遂行 など
給与

年俸:500万円~900万円

月額:23万円~42万円

非公開求人

開発職

業務内容
当社はメタボローム解析技術を用いて低分子バイオマーカーの探索を行っております。その中で発見された新規低分子バイオマーカーの分析装置や体外診断用医薬品の開発を担当していいただきます。分析化学に関する研究開発を経験された方が主な対象です。 具体的な業務の内容は、以下のとおりです。 1)測定原理の開発から原料調達、試作検討、製品評価までの開発業務全般
給与

年俸:400万円~450万円

株式会社広島メタル&マシナリー

技術職(金属材料・化学機械メーカー)

業務内容
■ケムテック事業■ 環境装置や産業機械の開発・設計から材料調達、納期管理、工程管理と、社内外とのコミュニケーションによって業務を進めていきます。 納入後の機械の試運転から診断を行うために国内外への出張も多々あります。 化学プロセスや機械設計の知識を活かし、わかりやすい説明でコミュニケーション力を発揮し活躍していきます。 ■スチール事業・メタルテック事業■ 製...
給与

年俸:300万円~800万円

非公開求人

特任研究員(固体物理分野)

業務内容
<固体物理または半導体物理等が関係する分野> 新しい薄膜デバイス(センサ、発電素子等)の研究開発
給与

年俸:350万円~600万円

非公開求人

ポテンシャル採用

業務内容
◆エンジニア職◆ 【パフォーマンスエンジニア(タイヤ性能研究)】 • タイヤの諸性能について、どのような現象が起こっているのかを理解し、またそれを用いてタイヤ評価方法を研究・開発する仕事です。 例: 冬タイヤのグリップ性能:タイヤトレッドブロックの変形をさまざまな状況下で観察。ブロック変形を予想するシミュレーション手法の開発。 タイヤ騒音振動性能:トレッドパ...
給与

年俸:400万円~800万円

月額:28万円~35万円

非公開求人

特任研究員(バイオ分野)

業務内容
<バイオ関連分野(合成生物学関連)> 合成生物学的手法を用いた新しいテーマの提案と研究開発
給与

年俸:350万円~600万円

非公開求人

研究開発職(係長クラス※課長候補)

業務内容
<業務内容> 課員を統率し、研究開発テーマを推進頂けるリーダーをお任せ致します。 複数の研究開発テーマの進捗管理、推進、部下や若手技術者の育成を担って頂きます。 (※同ポジションは課長職を部長が兼務しており、能力、業務習熟度合いによっては、   課長クラスの職務も積極的に対応頂きたいと考えております) ・機能材(研磨、研削、材料)の開発 ・国内外のお客様との...
給与

年俸:680万円~1050万円

非公開求人

構造バイオインフォマティクス研究者

業務内容
下記の仕事をしていただける研究者を募集いたします。 1. 構造バイオインフォマティクスアルゴリズム開発(タンパク質モデリング、ドッキング、結合サイト予測、分子動力学等) 2. 3次元構造と配列情報の統合 3. 複数の異なる実験から得られるデータ(質量分析、ELISA、SPR等)の統合と解析
給与

年俸:600万円~1200万円

非公開求人

新規表面加工装置の開発(主任クラス)

業務内容
<業務内容> 機械知見を活かした新規研磨技術の開発(入社後は新規3D研磨装置の開発を担当予定、化学・材料の知見があると尚良) ・消耗材開発チームと協力して、新規3D研磨装置の基本アイデア・設計構築、およびプロト機試作 ・プロト機の基本的な機構の特許化 ・パートナー企業と協業して装置化 ・お客様対応(海外出張有り)
給与

年俸:450万円~660万円

非公開求人

半導体デバイスメーカー向けCMPスラリー(研磨スラリー)の研究開発

業務内容
半導体デバイスメーカー様向けCMP研磨スラリーの研究開発(化学・材料)   ・研磨スラリーの組成設計  研磨対象は半導体デバイスに用いられている様々な膜(Cu、Poly-Si、W、SiO2等の金属膜や酸化膜) ・営業部門と協力し開発成果物の顧客展開、顧客課題解決のための現地での技術的支援 ・社内関係部署と協力連携し、開発品の量産移管 基本的に研究開発センター...
給与

年俸:460万円~590万円

非公開求人

半導体デバイスメーカーのCMP工程向け研磨用助剤の研究開発

業務内容
<業務内容> 半導体デバイスメーカーのCMP工程向け研磨用助剤の研究開発(化学・材料)   ・欠陥低減を目的とした研磨用助剤の組成設計 ・CMPスラリー開発チームおよび営業部門と協力し開発成果物の顧客展開、顧客課題解決のための技術的支援 ・社内関係部署と協力連携し、開発品の量産移管 基本的に研究開発センターでの勤務。 出張は月1~数回程度の見込み(基本は数日...
給与

年俸:460万円~590万円

非公開求人

新規事業分野での新規研磨材開発(主任クラス)

業務内容
<業務内容> 界面活性剤の知見を活かした新規研磨材(研磨スラリー)の開発(化学・材料) ・新規研磨材の開発、特許化および研磨機構の解明、特許化 ・装置開発チームと協力して、新規3D研磨装置の基本アイデア・設計構築、およびプロト機試作 ・パートナー企業と協業有り ・お客様対応(海外出張有り)
給与

年俸:450万円~660万円

非公開求人

研究・開発職

業務内容
下記分野における研究・開発業務に従事していただきます。 ■化学系(有機/無機/高分子/材料/錯体/触媒/天然物/電機 ほか) ■分析計(単離・精製/成分分析/構造解析/バリデーション/抽出 ほか) ■バイオ系(細胞実験/動物実験/微生物/遺伝子/タンパク/抗体 ほか) ■機械工学系(医療機器/機械材料/生体工学/材料力学/金属・機械加工 ほか) チーム型派遣...
給与

年俸:252万円~1000万円

月額:21万円